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SQDL超净室仪器设备导航


功能说明:

此页面用户可通过浏览“超净室仪器设备位置分布图”,查询设备编号,通过查阅“设备编号表”了解“设备名称”,并点击“设备名称”学习设备参数等信息。


为方便用户查询仪器设备名称和所在位置,结合中心超净室工艺流程的区域布局,对设备进行了编号,每个设备都有唯一的编号。编号由工艺流程号设备排序号及楼层标识3部分组成。其中:

工艺流程号:1个数,1-6之间,1-光刻区;2-湿法区;3-干法区;4-量测区;5-封装区;6-其他。

设备排序号:2个数,01-20之间,按位置排序。

楼层标识:B代表设备位于地下B1楼,没有则代表设备位于地上1楼。

例如:设备编号“1-03”,代表光刻区在1楼的第3个设备,查表可知为“高速分辨率无掩膜光刻仪MLA150”;设备编号“1-09B”,代表光刻区的在B1楼的第9个设备,查表可知为“电子束曝光机EBL”。


SQDL超净室仪器设备位置分布图(1层)

1 SQDL超净室仪器设备编号及名称(1层),请点击“设备名称”查阅设备信息

1-01

接触式光刻系统 MA6(MA/BA6)

3-09

磁控溅射沉积系统 Mo-Cu镀膜机

1-02

自动涂胶显影机 Track

3-10

电子束沉积系统 非磁性金属镀膜(PVD200)

1-03

高速高分辨率无掩膜光刻仪MLA150

3-11

化学气相沉积系统(PECVD)

1-04

步进式光刻机 Stepper

3-12

化学气相沉积系统(ICPCVD)

1-05

有机清洗通风橱 1层1号匀胶

3-13

反应离子刻蚀系统 RIE

1-06

湿法腐蚀台 1层2号匀胶

3-14

等离子刻蚀系统 三五族

1-07

显影通风橱 1层3号显影

3-15

HBR刻蚀机(硅)

1-08

普通化学清洗槽 1层4号显影

3-16

原子层沉积系统 ALD

1-09

HMDS烘箱*

3-17

ICP介质刻蚀机 硅基材料

1-10

高温烘箱

3-18

高功率等离子体刻蚀机 不含铟的三五族

1-11

真空烘箱

3-19

氟化氙刻蚀仪XEF2 ETCHER

1-12

yamato烘箱

3-20

反应离子刻蚀机(鲁汶ICP)

2-01

1.5M酸碱通风柜

3-21

深硅刻蚀机 DRIE*

1Liftoff有机清洗,大样品

3-22

HF干法刻蚀机 uEtch

2-02

普通化学通风柜4

3-23

等离子去胶机 Asher

2Liftoff有机清洗,小样品

4-01

3D电子扫描显微镜 SEM

2-03

氮化物清洗槽 磷酸

4-02

临界点干燥仪

2-04

湿法腐蚀台通风橱3 HF及BOE专用

4-03

原子力显微镜 AFM

2-05

湿法腐蚀台通风橱2 普通酸刻蚀及清洗通风橱,无超声功能

4-04

椭偏仪IR Wollam(SE-IRVASE) 红外

4-05

表面轮廓仪 KLA台阶仪

2-06

湿法腐蚀台 金属刻蚀及清洗通风橱,含超声功能

4-06

线性扫描轮廓仪

4-07

光谱反射膜厚仪Filmmetrics(F50-UV)

2-07

甩干机 四六寸晶圆

4-08

显微镜 (DM4M M205C

2-08

甩干机 四八寸晶圆

4-09

白光轮廓仪 3D Laser

3-01

快速退火炉 RTA

4-10

椭偏仪 IR-VASE Mark II M-2000UI)

3-02

离子束刻蚀机IBE*

4-11

应力测量仪

3-03

热蒸发(国产AlIn

4-12

显微镜DM4M 黄光区右

3-04

多源炉电子束蒸发系统 金属镀膜

4-13

显微镜 黄光区左(M2700M

3-05

多靶材溅射仪SPUTTER 介质镀膜 PVD3

4-14

高真空离子溅射仪 SEM制样

3-06

多靶材溅射仪SPUTTER 磁性金属镀膜 PVD2

4-15

3D电子扫描显微镜 SEM

3-07

多靶材溅射仪SPUTTER 非磁性金属镀膜 PVD1

5-01

打线机(7476D

3-08

氮化铝集成溅射仪 AlN cluster

5-02

贴片机


SQDL超净室仪器设备位置分布图(B1层)

2 SQDL超净室仪器设备编号及名称(B1层),请点击“设备名称”查阅设备信息

1-13B

电子束曝光机 全自动EBL

2-11B

晶圆甩干机 四六寸晶圆

1-14B

3D电子扫描显微镜 半自动EBL

3-24B

低压化学气相沉积系统 LPCVD*

1-15B

普通化学清洗槽 显影(左)

5-03B

薄抛光系统 lapping

1-16B

普通化学清洗槽 清洗(中)

5-04B

划片机 Dicing saw

1-17B

普通化学清洗槽 匀胶(右)

5-05B

减薄抛光系统 抛光机 CMP

2-09B

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