SQDL超净室仪器设备导航
功能说明:
此页面用户可通过浏览“超净室仪器设备位置分布图”,查询设备编号,通过查阅“设备编号表”了解“设备名称”,并点击“设备名称”学习设备参数等信息。
为方便用户查询仪器设备名称和所在位置,结合中心超净室工艺流程的区域布局,对设备进行了编号,每个设备都有唯一的编号。编号由工艺流程号、设备排序号及楼层标识3部分组成。其中:
工艺流程号:1个数,1-6之间,1-光刻区;2-湿法区;3-干法区;4-量测区;5-封装区;6-其他。
设备排序号:2个数,01-20之间,按位置排序。
楼层标识:B代表设备位于地下B1楼,没有则代表设备位于地上1楼。
例如:设备编号“1-03”,代表光刻区在1楼的第3个设备,查表可知为“高速分辨率无掩膜光刻仪MLA150”;设备编号“1-09B”,代表光刻区的在B1楼的第9个设备,查表可知为“电子束曝光机EBL”。
SQDL超净室仪器设备位置分布图(1层)
表1 SQDL超净室仪器设备编号及名称(1层),请点击“设备名称”查阅设备信息 |
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1-01 |
3-09 |
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1-02 |
3-10 |
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1-03 |
3-11 |
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1-04 |
3-12 |
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1-05 |
3-13 |
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1-06 |
3-14 |
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1-07 |
3-15 |
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1-08 |
3-16 |
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1-09 |
HMDS烘箱* |
3-17 |
ICP介质刻蚀机 硅基材料 |
1-10 |
高温烘箱 |
3-18 |
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1-11 |
真空烘箱 |
3-19 |
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1-12 |
yamato烘箱 |
3-20 |
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2-01 |
3-21 |
深硅刻蚀机 DRIE* |
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1号Liftoff有机清洗,大样品 |
3-22 |
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2-02 |
3-23 |
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2号Liftoff有机清洗,小样品 |
4-01 |
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2-03 |
4-02 |
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2-04 |
4-03 |
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2-05 |
4-04 |
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4-05 |
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2-06 |
4-06 |
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4-07 |
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2-07 |
4-08 |
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2-08 |
4-09 |
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3-01 |
4-10 |
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3-02 |
离子束刻蚀机IBE* |
4-11 |
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3-03 |
热蒸发(国产Al、In) |
4-12 |
显微镜DM4M 黄光区右 |
3-04 |
4-13 |
显微镜 黄光区左(M2700M) |
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3-05 |
4-14 |
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3-06 |
4-15 |
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3-07 |
5-01 |
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3-08 |
5-02 |
贴片机 |
SQDL超净室仪器设备位置分布图(B1层)
表2 SQDL超净室仪器设备编号及名称(B1层),请点击“设备名称”查阅设备信息 |
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1-13B |
2-11B |
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1-14B |
3-24B |
低压化学气相沉积系统 LPCVD* |
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1-15B |
5-03B |
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1-16B |
5-04B |
划片机 Dicing saw |
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1-17B |
5-05B |
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2-09B |
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