三腔室分子束外延生长系统
联系人
汤辰佳
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购买日期
2025/12/08
主要规格和技术参数
生长室
· 极限真空2E-10Torr
· 旗形样品托
· 每个生长腔室6个源炉口
· 衬底具有辐射加热和电流加热功能
缓冲室
·极限真空5E-10Torr
·多腔互联
·线性手动传输
进样室
· 快开门设计
主要功能及特色
原子级精度薄膜生长的薄膜沉积系统，具有3个分子束外延生长腔室，一个线性传输腔室，一个快速进样室。
主要附件及配置
2025.12.8学院提交申请，由2023100502 三腔室分子束外延生长系统 4580000.00、2022104209 三腔室分子束外延系统中转腔体 375000.00集成