大面积激光分子束外延系统
联系人
翟晓芳
邮箱
电话
购买日期
2025/12/08
主要规格和技术参数
极限真空：1E-6Pa
极限生长气压（RHEED运行状态下）：20Pa
衬底极限温度：1000℃
激光极限频率（不使用水冷）：10Hz
可生长样品最大尺寸：2英寸
主要功能及特色
可实现2英寸晶圆的薄膜制备；采用红外激光对衬底进行高效、均匀加热；主腔配有6个靶位，可实现多层膜、超晶格的原位制备； 系统配备RHEED，可原位监控薄膜生长。
主要附件及配置
2025.12.8学院提交申请，由2023103500 高压反射式高能电子衍射仪 ￥502,438.00、2023104683 大面积 PLD 真空系统 ￥450,000.00、2023104682 大面积激光退火系统 ￥246,000.00、2022103801 PLD 公转自转靶台 ￥162,500.00、2024104913 分子泵（HiPace 1200） ￥181,967.97、2024104911 分子泵（HiPace 80） ￥56,716.22、2024104914 分子泵（HiPace 80） ￥56,716.22、2024104912 分子泵（HiPace 300） ￥69,467.60、2022104410 一维位移传样装置 ￥37,500.00、2025102731 图形工作站 ￥8,800.00集成