多靶磁控溅射系统
多靶磁控溅射系统
联系人
张石磊
邮箱
电话
购买日期
2025/12/08
主要规格和技术参数
极限真空度可以达到1x10-7 Torr,有三个靶位
主要功能及特色
本系统主要用于磁性材料溅射以及非磁性金属材料溅射
主要附件及配置
2025.12.8学院提交申请,由2022100892 真空阀门组 196500.00、2022104454 溅射腔体 144985.00、2022104453 样品加热托 144890.00、2023102710 手套箱 135000.00、2022101978 冷水机 125000.00、2022104452 三维位移台 122570.00、2021101590 电磁铁 66000.00、2024100570 二维位移台 54000.00、2021101591 中型电磁铁及电源 52000.00集成