紫外曝光机
紫外曝光机
联系人
冷兴龙
邮箱
lengxl@shanghaitech.edu.cn
电话
021-20685739
购买日期
2024/10/18
主要规格和技术参数
设备占地面积150cm*100cm UV光源:进口LED模块 曝光中心波长:365nm 光源平行性:2º 曝光分辨率:0.8um-1um 曝光能量密度:>35mW/cm²可调 照度不均匀性:≤2.5%(∮150mm范围) 曝光面积:160mm*160mm
主要功能及特色
主要用于制造小规模集成电路、半导体器件、红外器件、光波导器件、声表器件、微机电系统(MEMS)、微流控等 显微倍数:放大倍率:150倍-720倍可调 双物镜可调距离范围:30mm-120mm
主要附件及配置
可支持掩模版尺寸: 3″×3″、4″×4″、5″×5″ 各一件 标配承片台 : 2英寸、3英寸、4英寸 各一件