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高深宽比金属柱制备系统
高深宽比金属柱制备系统   送样
联系人
张祁莲
邮箱
zhangql@shanghaitech.edu.cn
电话
021-20685791
购买日期
2022/09/30
主要规格和技术参数
主要用于金属薄膜的热蒸发，可沉积金属In、Al。PC腔体的极限真空：2*10-7Torr
主要功能及特色
高真空环境下，用于制备高深宽比金属柱的热蒸发工艺。
主要附件及配置
样品尺寸：支持8寸及以下样品。热蒸发源：2个。直流电源：1个，12V，600A。沉积温度：室温。