超高真空磁性薄膜沉积设备
联系人
孙璐, 杨雨梦
邮箱
sunlu@shanghaitech.edu.cn
电话
02120685417
购买日期
2020/04/28
主要规格和技术参数
溅射室极限真空 6.7e-7Pa以下
沉积系统 12个2英寸靶，4个500w直流电源，4个300w射频电源
加热测试 700 ℃/500℃
基板回转 80rpm
成膜测试 4英寸多种薄膜成膜测试
主要功能及特色
溅射室极限真空 6.7e-7Pa以下
沉积系统 12个2英寸靶，4个500w直流电源，4个300w射频电源
加热测试 700 ℃/500℃
基板回转 80rpm
成膜测试 4英寸多种薄膜成膜测试
主要附件及配置
手套箱