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HMDS烘箱
HMDS烘箱   送样
联系人
马驰原
邮箱
machy@shanghaitech.edu.cn
电话
021-20684635
购买日期
2020/04/20
主要规格和技术参数
1.腔体真空度≤110mTorr。 2.每次可至少处理2卡6寸晶圆。 3.样品处理后水滴接触角有变化。
主要功能及特色
采用六甲基二硅氮烷(HMDS)为主要反应气体，对晶圆表面进行处理来提高光刻胶与晶圆的附着性。可处理8寸及以下样品。
主要附件及配置
1.配置HMDS透明存储罐。 2.配置NeoDry15E-2干泵，极限真空1Pa。