最小图形大小：15 nm 最小线和间隔：25 nm（half-pitch） 灰度或3D光刻，垂直方向精度：2 nm 写场：60um*60um 场拼接最高精度：25 nm Overlay 最高精度：25 nm AFM横向极限分辨率：10 nm AFM竖直方向分辨率：1 nm 光学显微镜视场范围：1 mm2 ，分辨率：2.4 µm（放大倍数不可调，焦面需手动调节）

NanoFrazor Schloar扫描热探针光刻系统主要是利用尖锐的热探针(极限针尖直径2nm)和热敏胶来实现高精度的光刻（极限分辨率：half-pitch=25 nm）。在需要刻写的地方，通过对高温针尖（通常在950°C以上）加力，使针尖弯曲戳进热敏胶中，从而使得与针尖接触的热敏胶瞬间分解为气态小分子，进而实现图案化。通过控制针尖戳进热敏胶的深度、时间，以及针尖温度等几种方式，可以实现不同深度不同精度的1D、2D以及3D的光刻。

探针，PPA