双光子3D微纳光刻系统
双光子3D微纳光刻系统
联系人
张艳
邮箱
电话
购买日期
2023/03/22
主要规格和技术参数
具有宽广的可加工光敏材料选择的自由度,包含:SU-8, Ormocere, PEG-DA, AZ系列, As2S3, IP-L 780, IP-G 780等;最小线宽200纳米,最小分辨率500纳米;振镜扫描模式最高写入速度达10mm/sec以上
主要功能及特色
使用双光子聚合原理实现三维的光刻胶打印。加工模式有两种,包括纳米位移台以及振镜扫描。
主要附件及配置
飞秒激光器:脉宽≦120fs; 重复率:80MHz±1MHz;平均输出功率>120mW。压电陶瓷三维扫描平台(X-Y-Z):移动分辨率≤1nm,重复精度误差≤±10 nm. 扫描空间≥300µm×300µm×300µm。X, Y长行程工件台, 加工面积:≥100×100 mm², 重复精度误差≤±1.5 µm。