150nm最小线宽，25nm套刻精度；背面套刻精度：<75nm

适用于4寸（6、8寸需要提前沟通）硅片、透明晶圆、砷化镓、SiC等；适用于22mm*22mm最大写场或14.7mm*27.4mm最大写场；具备传统、环形、四度离轴对称光源;KrF光源；4：1放大的6寸光刻版

可以正面对准、背面对准