主要规格和技术参数
原子层沉积系统可以将物质以单原子膜的形式一层一层的镀在基底表面，通过交替通入不同的前驱体和材料表面发生连续的，自限性的反应。原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应直接与之前一层相关联，这种方式使每次反应只沉积一层原子，实现均匀、保形、厚度精准可控薄膜生长。
主要功能及特色
样品载物台最大可放置8寸硅片.
目前提供的氧化物沉积的有：HfO2、ZrO2、Al2O3、TiO2、ZnO、SnO2、Y2O3
主要附件及配置
臭氧发生器、温度100℃~250℃