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沉积镀膜系统
沉积镀膜系统
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联系人
熊荣欣, 何金金
邮箱
hejj@shanghaitech.edu.cn
电话
021-20684672
购买日期
2019/11/27
主要规格和技术参数
PLC全自动闭环控制: 沉积过程控制方式: 手动温度和压力控制 自动沉积压力闭环控制(只需要设定沉积压力,其它所有参数将自动跟随) 蒸发温度:室温℃ to 180℃ 温度精度:±3℃ 裂解温度:室温℃ to 720℃ 温度降到:±5℃ 规管温度:室温℃ to 135℃ 温度精度:±3℃ 系统真空度(冷机开启): 系统空载极限真空度≤5mT 系统空载达到极限真空度的时间≤30分钟 蒸发室为不锈钢材料,装料容量不小于125g 冷机温度-90℃,到达-75℃合作温度时间≤30分钟
主要功能及特色
可沉积Parylene C或N薄膜
主要附件及配置
12”直径X12”高标准沉积室一个 12”直径X3”高小沉积室一个