极限真空：8x10-8 Torr Ar流量：0-100sccm N2流量：0-20sccm O2流量：0-20sccm 溅射最低/大压强：1mTorr/15 mTorr 靶位和尺寸：4靶位，3英寸靶枪。2和4靶位为强磁靶，1和3靶位为普通磁性靶。 冷泵抽速：1500L/S，腔体压强进入9x10-7Torr大约70min。 基底温度：25-800℃ 最大基底尺寸：6寸（100mm）

磁性材料溅射、非磁性金属材料溅射、氧化物或氮化物溅射 目前提供溅射的靶材有：Al、Ni、SiO2、Cr、Cu、Pt、Au、Ti、ITO、Ag、Co、TiO2、Pd、HfO2、V2O5、ZnO、W、FeNi

本设备配置有3寸4靶枪，配备2台600瓦射频电源，2台1000瓦直流电源，可以满足共溅射和连续溅射的需求。另外，还配有2个电源切换器，允许每个电源在4个不同靶枪间通过程序控制自动切换。基片最高可加热到800摄氏度，兼容射频偏压清洗功能，并配置独立的偏压电源。