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无掩膜激光直写光刻系统
无掩膜激光直写光刻系统 预约   送样
联系人
张艳
邮箱
zhangyan@shanghaitech.edu.cn
电话
20684687
购买日期
2018/12/17
主要规格和技术参数
最高曝光精度：600nm
主要功能及特色
无需实物掩膜版，实现光刻与套刻
主要附件及配置
激光波长：385nm