湿式蚀刻清洗系统
联系人
熊荣欣
邮箱
电话
021-20684670
购买日期
2017/08/21
主要规格和技术参数
Wafab 2-显影及去光刻胶清洗台，主要用于手动显影和去光刻胶工艺。内有PG remover加热槽。
主要功能及特色
花篮最大可放置6英寸硅片；小样品可以使用烧杯。酸、双氧水（H2O2）、碱严禁在不锈钢材质的清洗台使用。
主要附件及配置