离子束刻蚀系统是利用具有一定能量的离子轰击材料表面，使材料原子发生溅射，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。离子束刻蚀系统用于通过物理溅射蚀刻材料，几乎可以刻蚀任何材料。预计对掩蔽材料的选择性非常差。工艺气体有Ar和O2。

样品台最大可放置4英寸样品。