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反应离子刻蚀系统
反应离子刻蚀系统 预约   送样
联系人
张艳
邮箱
zhangyan@shanghaitech.edu.cn
电话
021-20684687
购买日期
2016/10/18
主要规格和技术参数
最大可容纳8寸样品，向下兼容小样品
主要功能及特色
干法刻蚀的一种，利用离子高速撞击试样而完成化学反应刻蚀，可以刻硅氧化物、硅氮化物，有机物等
主要附件及配置
有RIE模式和PE模式