六甲基二硅氮烷(HMDS)广泛应用于半导体工业中，以提高光刻胶对氧化物的附着力。HMDS与氧化物表面发生被称为硅烷化的反应，在反应过程中形成与表面的强结合。同时，留下与光刻胶容易反应的自由键，增强光刻胶的附着力。该工艺不仅对二氧化硅有效，而且对其他氧化物(例如，Al2O3)以及裸硅晶片上存在的氧化物有效。

可使用于碎片、小片、4英寸及6英寸的样品。HMDS真空烘箱主要用于将HMDS涂覆至样品上，而不能用作普通的烘箱。