化学品清单:

序号 #

化学品名称 Name

成份 Composition

简介 Functions

MSDS

Data Sheet

存放位置 Location

备注 Remarks

1

乙醇

C2H6O

有机溶剂,无色液体,有酒香,易燃。

乙醇 MSDS


黄光区不锈钢化药柜

2

丙酮

CH3COCH3

有机溶剂,无色透明易流动液体,有芳香气味,极易挥发易燃、化学性质较活泼。

丙酮 MSDS


黄光区不锈钢化药柜

3

异丙醇

C3H8O

有机溶剂,无色透明液体,有似乙醇和丙酮混合物的气味,易燃,具刺激性。

异丙醇 MSDS

黄光区不锈钢化药柜

4

HMDS

(CH3)3SiNHSi(CH3)3

光刻胶增粘剂,有效增加硅基底表面疏水性。

HMDS MSDS

黄光区不锈钢化药柜

5

MF-26A

~2.5%Tetramethy lammonium Hydroxide in H2O

显影液,主要成分为四甲基氢氧化铵(TMAH),溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域。

MF-26 MSDS


黄光区不锈钢化药柜

6 AZ 300 MIF Developer 四甲基氢氧化铵;水
显影液 AZ 300 MIF Developer MSDS

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7

PG Remover

N-Methyl Pyrrolidinone based solvent

去胶液,主要成分为1-甲基-2-吡咯烷酮(NMP),加热可有效溶解光刻胶。

PG Remover MSDS

reference

黄光区不锈钢化药柜

8 AZ 400 T NMP(N-甲基吡咯烷酮);1, 2-丙二醇;四甲基铵羟化物(TMAH)
去胶液 AZ 400 T MSDS
黄光区不锈钢化药柜
9 丙二醇甲醚醋酸酯
C6H12O3; CH3CO2CH(CH3)CH2OCH3
别名: MPA;PGMEA;丙二醇单甲醚乙酸酯
1-Methoxy-2-propyl acetate; 1,2-Propanediol monomethyl
ether acetate; 2-Acetoxy-1-methoxypropane; 1,2-
Propanediol 1-Monomethyl Ether 2-Acetate; Propylene
Glycol 1-Monomethyl Ether 2-Acetate MPA; PGMEA
丙二醇甲醚醋酸酯 MSDS

黄光区不锈钢化药柜

10

LOR 5A

/

lift off 底层胶。非感光性树脂,可以被显影液溶解,作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。

LOR 5A MSDS

reference

黄光区冰箱

11 PMGI SF5 / lift off 底层胶。 PMGI SF5 MSDS

reference 1

reference 2

黄光区冰箱

12

S1805

/

正性光刻胶(optimized for g-line),约0.5微米左右薄,分辨率高,稳定可靠。

S1805 MSDS

reference

黄光区冰箱

13

S1818

/

正性光刻胶(optimized for g-line),约1.8微米左右薄,分辨率高,稳定可靠。

S1818 MSDS

reference

黄光区冰箱

14

SPR220-7

/

正性厚光刻胶,可厚约6.5微米或9微米,用于选择性电镀,深硅刻蚀等工艺。

SPR220-7 MSDS

reference

黄光区冰箱

15 AZ5214 / 适用于高分辨率工艺(lift-off工艺; optimized for i-line;适用于正/负图形;很宽的膜厚范围等工艺。 AZ5214 MSDS

reference

image reversal schematic

image reversal reference

positive reference

negative reference

黄光区冰箱
16 SU-8 3025系列 / SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶。 SU-8 MSDS
reference 黄光区冰箱
17 氢氟酸 HF
适用于氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,清澈、无色、发烟的腐蚀性液体,有剧烈刺激性气体。易溶于水、乙醇、微溶于乙醚。
HF MSDS

ref 1 (by K. R. Williams and R. S. Muller)

ref  2 (by K. R. Williams, K. Gupta, and M. Wasilik )

需申请才能领用
18 缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)/Buffered HF酸
它是一种缓冲剂的混合物,例如氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)。

缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的湿蚀刻剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)薄膜。浓缩HF对二氧化硅的蚀刻速度太快,无法实现良好的工艺控制,并且还会剥离用于光刻图案化的光刻胶。

备注:勿存放于玻璃器皿。

BOE/Buffered HF MSDS

需申请才能领用
19
MHA
C16H32O2S
16-巯基十六酸,用于polymer pen的工艺中,Au的墨水
MHA MSDS
申请才能领用

20 硫酸
H2SO4
无色澄清油状液 体。无气味。能与水和乙醇混溶,并放出大量热而猛烈溅开,宜将酸渐渐加入水中。暴露空气中迅速吸收水分,也能夺取有机物如糖、纸、布、木等中的水分子而使其碳化。相对密度约1.84。沸点约290℃。低毒。有强腐蚀性。
H2SO4 MSDS

piranha refs:

ref 1 (by K. R. Williams and R. S. Muller)

ref  2 (by K. R. Williams, K. Gupta, and M. Wasilik )

申请才能领用

21 过氧化氢 H2O2 过氧化氢,30%水溶液,氧化剂,漂白剂。
H2O2 MSDS

申请才能领用

22 Au腐蚀液(Gold etchant, standard) KI、I、H20 易于以最少的底切控制蚀刻。室温下操作。无氰化物,用于标准应用。在 25°C 时的蚀刻速率为 28 埃/秒
Gold etchant MSDS
Gold etchant Data
Web Link
申请才能领用

23 氢氧化钾 KOH 用于Si的刻蚀 KOH MSDS

reference 1

reference 2



申请才能领用