1 光谱分析范围 380nm-1000nm 2 测量光斑大小 ≥1.5mm 3 膜厚重复性测量精度 0.02nm（500nm 硅基SiO2样件，30次重复测量） 4 膜厚绝对精度 0.2%或2nm之间较大者 5 膜厚测量范围 15nm-70μm 6 测量n和k值厚度要求 100nm以上 7 单点测量时间 ≤1s

对薄膜结构的厚度进行快速、准确地测 光谱测量能力：反射率光谱测量 数据分析能力：膜厚分析能力，光学常数（折射率和消光系数） 支持常用光学常数模型以及常用振子模型 支持用户自定义，软件不限制拷贝数量，支持windows 10操作系统 支持mapping路径编辑、路径导入