1月26日 量子器件中心《造芯大讲堂》第二讲：《步进式光刻机设备介绍与工艺技术应用》

我们知道，光刻机是制造芯片的核心装备，被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”。光刻工艺水平直接决定线芯片制程和性能水平，那么，

光刻机尤其是产线上使用的步进式光刻机是如何工作呢？

如何通过步进式光刻机制造出相应节点的芯片呢？

量子器件中心《造芯大讲堂》系列课程第二讲《步进式光刻机设备介绍与工艺技术应用》，将于1月26日开课。诚邀感兴趣的老师、同学们报名参加！

一、时间、地点

       时间：1月26日（周五）下午13：00-17：00

       地点：量子器件中心2007教室

 二、培训形式和招生范围

     （一）培训形式：小班授课（30人）

     （二）招生范围

       1.  对步进式光刻机感兴趣的师生及用户

       2.  未来有志于从事芯片制造工作的学生及用户

三、培训师资

      张鑫焱，阿斯麦（上海）光刻设备科技有限公司/步进式光刻机资深工程师&售后经理

      姚树歆，合光光掩模科技有限公司/总经理CEO

四、培训大纲

     《造芯大讲堂》第二讲：步进式光刻机设备介绍与工艺技术应用

     （一）步进式光刻机设备介绍与工作原理

     （二）步进式光刻机工艺技术及其应用

五、报名方式

感兴趣的老师、同学们请扫描以下二维码报名：

     报名截止时间：1月24日（周三）上午12时

     我们将从所有报名者中遴选30位左右对课程感兴趣的申请人参加本次活动。报名成功者将收到邮件确认通知。

六、《造芯大讲堂》介绍

     量子器件中心自2023年底面向校内师生和广大用户开设《造芯大讲堂》系列培训，将为参训学员带来一系列芯片制造相关的微纳加工设备、工艺以及厂务等方面的知识及实操训练，旨在提升学员在微纳制造方向全方位的综合技能，助其成为未来的微纳制造领域卓越工程师。

培训工作联系人：刘老师，021-20684741