电子束光刻机
电子束光刻机
联系人
常海霞
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购买日期
2024/04/01
主要规格和技术参数
1、最小特征尺寸≤8nm 2、加速电压最大30KV,最小可调节步进为10V 3、20kv,最小束斑直径1.6nm 4、图形发生器扫描频率6MHz 5、束流范围 5pA-20nA 6、写场0.5um-2mm连续可调 7、套刻精度小于50nm 8、光阑尺寸:7μm、10um、15um、20μm、60μm,120μm 9、工作台范围不小于50*50*25mm
主要功能及特色
设备采用肖特基热场发射电子束源,可提供30KV以下高分辨SEM图像和0.5um-2mm写场可变范围电子束曝光功能,可实现最小特征尺寸8nm曝光,50nm套刻精度
主要附件及配置
SEM主机台、6MHz图形发生器、25mm2/2英寸样品台、UPS不间断电源、冷水机、常用工具箱