电子束曝光机
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联系人
翁思远
邮箱
wengsy@shanghaitech.edu.cn
电话
users.sqdl@shanghaitech.edu.cn
购买日期
2017/10/10
技术参数
加速电压:125 KV 可实现最小线宽 < 20 nm
功能特色
高电压、大写场,兼具高分辨率和高曝光速率。 样品尺寸:20mm*20nm以下不规则小片,2/3/4/5/6寸晶圆。
主要附件及配置
动态聚焦消像散器、可变场大小发生器、预对准台。