1.2.1 真空腔室：镀膜室尺寸不小于L500mm×W500mm×H470mm；SUS304优质不锈钢方箱型真空腔室；前门水平滑开式，能在手套箱内操作；后门为侧开门，能进行设备清理维护；镀膜室配置独立机架，应可在脱离手套箱条件下单独调试和使用，与手套箱之间通过镀膜室前门框密封连接，要求对接方便、密封安全可靠。 1.2.2 ★真空系统：复合分子泵+涡旋干泵+高真空阀门组合的高真空系统，数显复合真空计； 1.2.3 真空极限达到或优于：5.0×10-5Pa； 1.2.4 漏率 ≤0.8Pa/h； 设备保压：停泵12小时后，设备真空度≤10Pa； 1.2.5 ★从大气抽至8.0×10-4Pa时间≤40min（大气环境）；从大气抽至8.0×10-4Pa时间≤20min（干燥氮气环境）； 1.2.6 基片台：基片台间接水冷，尺寸不小于230×230mm，可镀样品尺寸≤220×220mm；配有基片台挡板；旋转转速0～20转/分钟，可调可控；升降基片台可调节范围70mm或更优； 1.2.7 ★蒸发源及电源：金属源：水冷铜电极4组；蒸发电源：功率不小于1500W，2台（要求可实现1拖2），要求有两个金属源能够实现共蒸功能；有机源：两个束源式控温有机蒸发源（最高温度不小于600℃），配置2组有机蒸发电源；每个蒸发源有独立挡板；源间有挡板； 1.2.8 膜厚控制系统：配4通道膜厚仪，配3个水冷晶振探头，可实现共蒸功能。（两个探头安装在基片台左右两侧监测膜厚，要求可切换控制蒸发源速率，在线测量镀膜过程中膜厚变化，根据实时膜厚和镀膜速率自动调整蒸发源电源功率，保证镀膜过程接近匀速稳定，可调节蒸发速率0-100 Å/s,测量周期0.1-1s可调，速率显示0.01Å/s，厚度分辨率0.1Å或更优。一个探头用于监测共蒸）；

热蒸发镀膜仪是材料科学与表面工程研究中必备的大型工艺装备之一，应用范围广泛，可以用于完成金属薄膜、光学涂层、半导体功能层等沉积制备工作，还可以用于实现高纯度纳米薄膜、多元复合镀层及梯度材料镀覆