双温区热台：工作温度 RT-1050°C，最大升降温速率100 °C/min，控温精度±0.5°C，温度显示精度±0.1°C； MOCVD 光学反应腔体：特殊定制，独特的中间方形两端圆形结构设计，焊接金属源管道直通反应区域； MO供气系统：2路MO鼓泡管路，3路液态源鼓泡管路，漏气率：单点＜2×10-6 atm·cc/sec He ；MO鼓泡量程0~10sccm,液态源鼓泡量程0~100sccm；流量控制精度±0.5%，控制范围2%~100%。

微型化MOCVD系统，符合MO供气的安全标准，对薄膜沉积过程可进行实时可视化观测。