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多源炉电子束蒸发系统
多源炉电子束蒸发系统
预约
送样
联系人
张祁莲
邮箱
zhangql@shanghaitech.edu.cn
电话
20685791
购买日期
2017/10/12
技术参数
极限真空:8*10-8Torr。分子泵抽速:1100l/s.
功能特色
主要用于沉积各种金属薄膜材料,目前提供的蒸发源:Ti,Pt,Au,GeAu,Ni,Cr
主要附件及配置
基底温度:室温。4KW电阻蒸发电源:1台。6*15cc电子枪:1把。SQC-310晶振控制器:1套。用于控制沉积速率和厚度。最大基底尺寸:6寸。