具体参数要求： 1.、镀膜真空腔室：可用于1.3GHz的单cell型和9cell特斯拉型超导微波加速腔蒸镀的大型超高真空腔室 2、真空烘烤组件要求烘烤温度在100度以上使用加热带加热腔体，并且保证加热烘烤的安全。配置加热带和控制电源等以满足烘烤条件。 *3、真空泵组包括要求采用大功率进口螺旋泵（浦发HiScroll 18或同等级别产品）、涡轮分子泵（浦发HiPace-2300或者同等级别产品）。 4、工艺气体充气系统：Kr及气路，气体流量阀（10-20000 sccm），以及四极质谱，用于调节镀膜所需的气压以及监测镀膜过程中工艺气体纯度。 *5、内置加热金属片：采用钽制成的片状加热体，可以用于真空预抽气时的烘烤以及在镀膜时为铜腔加热，其加热温度可以达到 650℃。较广的温度调节范围有利于选择更优的薄膜生长温度。 *6、待镀膜实验腔：待镀膜1.3GHz的单cell型和9cell特斯拉型超导微波加速腔实验不锈钢和铜实验腔各一套，具体尺寸参照常规1.3GHz超导微波加速腔。 7、真空测量：实现本底真空和镀膜时真空测量。 8、真空阀门：用于调节抽气速率和腔体气压。 9、观察窗：能清晰观察运行中的等离子体。 10、阴极feedthrough：设计特定的feedthrough结构，便于靶材的安装。 11、配电及接地保护系统：用于满足机组、真空规、放电电源等电力供应。 12、控制软件： 1) 监控参数：真空度状态、阀门状态、真空泵状态； 2) 控制功能：实现蒸镀过程控制、真空获得控制、样品控制等，并包含必要的保护及报警功能。 3) 功能多样性：客户定制。 13、控制主机：主机电脑用于各参数监控和软件控制。 *14、需要提供在超高真空系统定制设备3套客户数据。

其中异型腔超高真空系统是高能脉冲磁控溅射系统的关键真空部件，其主要包括真空腔部分、真空获得与测量系统、以及多种异型实验腔体。其功能主要是使腔体实现高真空状态并及进行测量，为薄膜的制备提供稳定的生长条件。

1) 腔室为全不锈钢结构（SUS316L），腔室法兰密封采用超高真空设计。 2) 真空室极限真空度：≤5×E-8 Pa。 3) 真空室整体罩检总漏率：<1×E-11Pa·m3/s，检漏本底：<5×E-11 Pa·m3/s； 4) 超高真空CF 国标法兰。