投影数字光刻系统
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联系人
王镜喆
邮箱
wangjzh1@shanghaitech.edu.cn
电话
021-20684633
购买日期
2023/11/15
主要规格和技术参数
激光波长:355nm;最小分辨率:0.5um;正面对准精度:+/- 0.5um;背面对准精度:+/- 2um。
主要功能及特色
无掩膜光刻可以不使用掩模板直接描绘光刻胶图形,其使用基于空间光调制器的数字掩模代替传统光刻的物理掩膜,既省去掩模板的成本,又提高了光刻的灵活性,而且可以对设计图形进行快速修改,非常适合研发环境。
主要附件及配置
通用样品架