1.电子光学：高分辨肖特基场发射电子枪；加速电压200 V-30kV；束流大小为1 pA-50 nA 连续可调；配备样品台减速功能；配备14孔自动加热式光阑 2.分辨率：加速电压15 kV : 0.5 nm （可减速）；加速电压1 kV : 0.8 nm （可减速）；加速电压500 V : 0.8 nm （可减速）；加速电压200 V : 1.2 nm （可减速）；低真空条件下（30 Pa），加速电压3 kV : 1.8 nm 3.探测系统：3个独立镜筒内不同位置的inlens探测器；1个独立样品仓内二次电子探测器；1个独立的物镜下样品上的背散射电子探测器，可电动进退，可按片状或环形分割成至少四个区域，不同区域的信号可单独显示或叠加显示；样品仓内具有独立的光学相机从上至下对样品台拍摄，并可用于导航；样品仓内具有独立红外CCD相机可从水平方向观察样品台高度；具有独立的环境二次电子探测器。

1. 标配探测器：用于探测和捕捉样品的不同性质和信号。 2. PivotBeam：不改变样品位置通过摇摆光束获取更高分辨率和更多信息。 3. 样品台偏压：可在-4000V至+600V范围内进行偏压操作。可用于控制样品表面电子能量以改变样品性质和表面形貌。 4. 低真空模式：样品仓气压范围为10-500Pa，适用具有不良导电性的样品。 5. 样品台：采用五轴电动马达台，倾斜范围为-15°至+90°，最大样品重量5kg。 6. 束流：标配最大束流50 nA，用户可调整束流强度以获得最佳样品信号和分辨率。

1.Ametek EDS: EDAX EDS Octane Elite 2.Ametek EBSD: EDAX EBSD VelocityGen1 3.Vacuum Process Gas Analyser: HIQUAD700