*1、反应池：具备样品附近扰流稳压控压功能，控压范围100Pa至0.1bar。 *2、四极磁体、偶极磁体以及螺线管磁体。 *3、所有的光学器件都安装在一个标准光学平台上，允许用户对光学器件进行调整，满足自己的科研需要. *4、灵敏度和稳定性：非常低的噪音，可以探测到低至 10-12 emu 的磁矩 *5、加热装置：采用无催化背景的悬浮式激光加热。在标准标定实验中如TPD需满足无催化热背景表现（注：检测方式为四极质谱）。加热温度不低于1800摄氏度。 *6、目镜筒：双目观察，带勃氏镜便于物镜对中调整，具有关闭功能。 *7、供气单元：具备供气混气稳压单元，并具备分路洗气功能，具有镜面对称式换气功能。 *8、泄压系统：具备防燃爆泄压功能。 *9、物镜：25MM螺纹尺寸 *10、具有明场、微分干涉及荧光功能：明场、微分干涉及荧光可以同时打开同时工作，从而保证微分干涉和荧光叠加时没有图像漂移的问题。 11、冷却台：样品台具有低温冷却模块，具有特殊真空夹层设计，温度范围300K-90K温区连续可调。 12、载物台：高精度电动载物台，样品台可用操作杆控制操作。

面内和极向磁畴观察，具备短波红外相机对原子级厚度样品衬度成像，可同时实现可见光和红外成像，具备较高的成像信噪比。配有高温反应池以及激光局部加热的冷壁腔体，具有限域扰流控压结构以及载气窗片吹扫功能，可有效抑制反应物种在腔体内壁和光学窗口上的沉积。该设备用于观测金属样品在反应过程中的磁畴变化，以及二维材料在磁场调制下的生长行为。