本仪器是基于商业化Quattro ESEM 环境扫描电镜的定制化改装设备。该设备配备定制化场发射肖特基电子枪 (FEG)，并集成多级气体差分系统。可实现在10000Pa气氛环境下，1600℃高温下，对样品表面进行纳米尺度的高精度形貌成像。该电镜具备三种成像模式（高真空、低真空、近常压）可灵活适应各种样品，包括易放气、绝缘体材料以及在高真空环境下不稳定样品等。 高真空模式：0.8nm (30kV) ，3.0nm (1kV) 低真空模式：（10-500Pa），1.3nm (30kV） 近常压模式：（500-10000Pa），5nm（30kV）

标准检测器 高真空ETD、低真空 SED (LVD)、 近常压 SED (GSED)、最高成像气氛压力可达 10000 Pa，并支持极端环境下（高温1500℃、10000Pa下腐蚀性气体，如NO2、H2S等）的原位在线实时表界面追踪。样品台为5轴马达优中心样品台，110 x 110 mm2，105° 倾斜范围。最大样品重量：未倾斜位置，5 kg。 标准样品支架 标准多样品 SEM 支架可单独直接安装在载物台上，可容纳多达 18 个标准样品托 (⌀ 12 mm)，无需工具即可安装样品。支持环境气氛下的原位EBSD以及EDS表征，室温到高温（1500℃）范围内控温下对材料进行微纳米力学行为实时实空间追踪分析。并配有阴极荧光（CL）扩展功能，可进行时间分辨以及角分辨CL谱原位实时收集。

1.Ametek EDS: EDAX EDS Octane Elite 2.Ametek EBSD: EDAX EBSD VelocityGen1 3.Vacuum Process Gas Analyser: HIQUAD700