1. 系统配置LL+PC，并采用全自动传样，配置4及6寸晶圆卡盘； 2.LL配置机械泵（6.7cfm）；LL配置分子泵（260L/sec），与LL之间有Hi Vac 阀门 3.PC腔体采用冷凝泵抽真空（1600L/s） 4.PC腔室体积：50L（样品台距离靶枪距离：~380mm） 5.PC腔体与冷凝泵之间配置多位置阀门（throttle），用于up 及down stream process 6.PC腔样品盘配置水冷，样品盘可旋转（20RPM）

Mo、Cu薄膜的生长，最大6寸晶圆，硅片，含RF清洗，含LL

1.配置三个三英寸靶枪，并配置三个DC电源（1500W） 2.配置RF电源（100W)用于清洗样品