SQDL（已停用）

二氟化氙气体刻蚀系统

二氟化氙气体刻蚀系统预约送样

联系人

张艳

邮箱

zhangyan@shanghaitech.edu.cn

电话

021-20684687

购买日期

2020/04/20

主要规格和技术参数

适用于4寸、6寸、8寸晶圆，兼容小样品

主要功能及特色

干法刻蚀硅，释放悬臂梁结构

主要附件及配置

尼康显微镜