多靶材溅射仪SPUTTER
多靶材溅射仪SPUTTER   送样
联系人
张祁莲, 吴文一, 闫晓密
邮箱
zhangql@shanghaitech.edu.cn
电话
购买日期
2018/10/19
主要规格和技术参数
极限真空:5*10-8Torr。冷泵抽速1500l/s。3英寸磁控溅射靶枪:4支。Ar气流量:0-100sccm;
主要功能及特色
介质薄膜,金属材料溅射。目前提供溅射的靶材:Nb;
主要附件及配置
300W射频电源:1台。1000W直流电源:1台。500W直流电源:1台。可以满足共溅射和连续溅射的工艺需求。兼容射频偏压清洗功能,配置独立的偏压电源。基底温度:25-800℃。最大基底尺寸:6寸。