（1）椭偏角度测量范围：Ψ：0º– 90º，Δ：0º– 360º，全角度范围无测量死角、并可一次测量完成。 （2）光谱范围：190 nm - 2500 nm，覆盖紫外、可见光、近红外段，全光谱范围内自动测量。 （3）高度、倾斜度可调节的样品载物台，直径 150mm （4）样品尺寸：可测量最大6英寸直径样片，样品最大厚度8 mm （5）膜厚测量范围：至少1 nm - 100 µm （6）可测量层数：单层膜、多层膜，软件上对层数无限制。 （7）黑白 CCD 摄像头，1.3 百万像素，带照明和成像光学件 （8）入射角范围：20° - 100°，最小步进值0.002°。 （9）椭偏测量准确度：δ() ≤ ±0.03°， δ(Δ) ≤ ±0.06° （10）膜厚测量精度：≤ 0.015 nm (100 nm SiO2/Si标准片，1 Sigma标准偏差） （11）折射率n测量精度：≤ 0.0002 (100 nm SiO2/Si标准片，1 Sigma标准偏差） （12）测量时间：< 20秒 （测量整个光谱范围内的Ψ / Δ曲线，不少于1500个波长点）

测量半导体、电介质、聚合物等无机、有机薄膜的膜厚、折射率n和消光系数k等。可测量单层膜、多层膜，还可进行材料组分、梯度不均匀性、表面和界面粗糙度、以及各向异性特性的测量和分析；可处理真实样品的各种特性，如退偏、非均匀性、散射、背反射等。

原位椭偏测量液体池：一对测量窗口、特氟龙材料、流体静止。 加热液体池：可加热到70°C；入射角50/60/70度；液体可流动。 加热样品台，可加热到300°C；温度稳定度1°C；加热区域直径50 mm，尺寸为宽 90 mm，深 92 mm，高 95 mm