多靶材溅射仪SPUTTER
多靶材溅射仪SPUTTER 预约   送样
联系人
张祁莲
邮箱
zhangql@shanghaitech.edu.cn
电话
20685791
购买日期
2018/10/19
主要规格和技术参数
极限真空:1*10-7Torr。分子泵抽速790l/s。Ar气流量:0-100sccm。氮气流量:0-20sccm。
主要功能及特色
非磁性金属材料溅射。目前提供溅射的靶材:Ti,Pt,Au,Al,Cu
主要附件及配置
3英寸磁控溅射靶枪:6支。600W射频电源:1台。1000W直流电源:2台。可以满足共溅射和连续溅射的工艺需求。兼容射频偏压清洗功能,配置独立的偏压电源。基底温度:室温。最大基底尺寸:6寸。