多靶材溅射仪SPUTTER
多靶材溅射仪SPUTTER 预约   送样
联系人
张祁莲
邮箱
zhangql@shanghaitech.edu.cn
电话
20685791
购买日期
2018/10/19
主要规格和技术参数
极限真空:5*10-8Torr。冷泵抽速1500l/s。Ar气流量:0-100sccm。3英寸磁控溅射靶枪:4支,1-4号位。2英寸靶枪:2支,5和6号位。1、3和5号位强磁靶枪。2、4和6号位普通磁性靶枪。
主要功能及特色
磁性金属材料溅射。目前提供溅射的靶材:Ni,FeGa,B,Cr,Ta。
主要附件及配置
600W射频电源:1台。1000W直流电源:1台。500W直流电源:1台。脉冲直流电源:1套。可以满足共溅射和连续溅射的工艺需求。兼容射频偏压清洗功能,配置独立的偏压电源。基底温度:25-800℃。最大基底尺寸:6寸。