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主要规格和技术参数
激光波长：375nm、405nm；最小分辨率：1um；正面对准精度：+/- 0.5um；背面对准精度：+/- 1um。
主要功能及特色
无掩膜光刻可以不使用掩模板直接描绘光刻胶图形，其使用基于空间光调制器的数字掩模代替传统光刻的物理掩膜，既省去掩模板的成本，又提高了光刻的灵活性，而且可以对设计图形进行快速修改，非常适合研发环境。
主要附件及配置
通用、6寸Mask、6寸Wafer和小尺寸样品四种样品架。