接触式光刻系统
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联系人
彭鹏飞
邮箱
pengpf1@shanghaitech.edu.cn
电话
021-20684632
购买日期
2017/11/09
主要规格和技术参数
最大衬底尺寸:150mm;最大衬底厚度:10mm;最大掩模板尺寸:7寸;紫外光波长:365 nm - 450 nm;紫外光功率:1000W;最小分辨率:0.8um;正面对准精度:+/- 0.5um;背面对准精度:+/-1um。
主要功能及特色
紫外曝光机通过高压汞灯发射出的紫外光将掩膜版上的图形复制到样品上,形成光刻胶图形,其紫外光源波段为365 nm - 450 nm,可进行接近式或接触式曝光。
主要附件及配置
1.I-lline Filter;2.Neutralfilter。