SQDL（已停用）

多源炉电子束蒸发系统

多源炉电子束蒸发系统预约送样

联系人

张祁莲

邮箱

zhangql@shanghaitech.edu.cn

电话

20685791

购买日期

2017/10/12

主要规格和技术参数

极限真空：8*10-8Torr。分子泵抽速：1100l/s.

主要功能及特色

主要用于沉积各种金属薄膜材料，目前提供的蒸发源：Ti，Pt，Au，GeAu，Ni，Cr

主要附件及配置

基底温度：室温。4KW电阻蒸发电源：1台。6*15cc电子枪：1把。SQC-310晶振控制器：1套。用于控制沉积速率和厚度。最大基底尺寸：6寸。