SQDL（已停用）

无掩膜激光直写光刻系统

无掩膜激光直写光刻系统预约送样

联系人

张艳

邮箱

zhangyan@shanghaitech.edu.cn

电话

20684687

购买日期

2018/12/17

主要规格和技术参数

最高曝光精度：600nm

主要功能及特色

无需实物掩膜版，实现光刻与套刻

主要附件及配置

激光波长：385nm