物质科学与技术学院,李**同学,连续镀三次 Si 膜共计 15 μm, 主要违反了每次最多镀膜 5 μm 后必须清腔的规定,导致腔体内粉尘过多,腔体污染严重,同时内外胶圈沾有粉尘,影响设备的真空度,且粉尘易吸入真空泵,减少泵的使用寿命。经平台委员会讨论决
定,给予李
**同学设备红牌处罚,禁止使用 PECVD 一个月,重新考核通过后取得设备使用权限。