真空镀膜系统
联系人
宁志军, 周文佳
邮箱
zhouwj@shanghaitech.edu.cn
电话
15802145130
购买日期
2015/08/24
主要规格和技术参数
真空度1E-7 torr, 3个热蒸发源，两个溅射靶位，样品台可放置6英寸大小样品。
主要功能及特色
利用热蒸发及磁控溅射技术制备金、银、铝等薄膜电极材料以及ITO、ZnO等氧化物材料。
主要附件及配置
手套箱，冷泵，冷水机